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坐在周政左手边的一个年轻女研究员开口了。
短头发,说话很快。
碳管阵列生长工艺负责人,林恩恩。
“打个比方。
硅基晶体管的电子跑起来像在泥地里走路,碳管里的电子像在冰面上滑。
同样的距离,一个喘得要死,一个根本没出汗。”
方墨在角落里轻声嘀咕了一句:“冰面上打冰壶。”
林恩恩看了他一眼,没理。
“载流子饱和速度四乘十的七次方厘米每秒,硅的四倍。”
周政切到下一页,“更关键的是,碳管的一维超薄体结构天然压制短沟道效应。
硅基芯片缩到三纳米以下,量子隧穿漏电堵都堵不住,得靠GAA环栅、背面供电这些复杂架构去兜。
碳管不用。
物理结构本身就是答案。”
“所以我们在七纳米节点,用的是最简单的平面顶栅结构。”
陈阳问:“器件架构说一下。”
周政右手边的人接过话。
瘦高个,四十出头,左手无名指缠着创可贴——大概是调试设备时划的。
器件架构与集成负责人,陈锋。
跟陈阳同姓,但没有亲戚关系。
“无掺杂CMOS。”
陈锋把投影切到器件截面图,“硅基芯片造P型和N型晶体管,得靠离子注入往硅里面砸掺杂原子。
温度上千度,而且砸进去的原子分布不均匀,直接影响器件一致性。”
“我们不掺杂。
P型管用钯做源漏电极,N型管用钪。
金属功函数不一样,电子注入行为不一样,晶体管极性就分开了。”
他翻到下一张图,是一组对比数据。
“免掺杂带来两个好处。
第一,没有离子注入造成的晶格损伤,器件寿命延长三倍以上。
第二,阈值电压一致性提升一个数量级。
直接反映在良率上——我们首批试产的良率是百分之九十二点三。”
苏清妍的笔停了一下,抬头看了陈阳一眼。
百分之九十二点三。
台积电三纳米工艺刚量产时的良率不到百分之八十。
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