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第640章 碳基芯片（第2页）

陈阳没有表态，示意继续。

第三个人站起来。

矮胖，说话带江浙口音。

碳管提纯与材料负责人，何建宏。

天奈科技并入的技术骨干。

“原料是整条工艺链的命门。”

何建宏打开自己的笔记本电脑，屏幕上是一组纯度检测报告。

“半导体型碳管纯度要求六个九——百分之九十九点九九九九。

少一个九，芯片就会出现随机逻辑错误。

这个指标在三年前全世界没有人能做到公斤级量产。”

“现在能做到。”

他指着报告上的数字，

“凝胶色谱法提纯，六台设备并联，日产量两公斤。

管径偏差控制在零点二纳米以内，带隙零点五到零点七电子伏特，无金属催化剂残留。”

“两公斤够造多少片晶圆？”

陈阳问。

“八英寸晶圆，每天两公斤碳管大约支撑四百片。”

何建宏答得很快，“六条产线全开的话日需十二公斤，提纯设备还得扩三倍。

但这只是工程放量的问题，技术上没有瓶颈了。”

陈阳转头看方墨。

方墨点了下头，意思是数据跟伏羲的交叉验证结果一致。

“衬底呢？”

“八英寸高阻单晶硅，表面热氧化二百八十纳米二氧化硅绝缘层。”

何建宏摆手，“这个不值得说，跟普通硅基晶圆一模一样，国内几十家厂能供。”

第四个人没等被点名就开口了。

三十出头，穿着蓝色冲锋衣，看着不像搞科研的。

光刻与图形化工艺负责人，许哲。

“各位最关心的问题——不用EUV怎么做七纳米。”

许哲把投影抢过来，切到一张工艺流程图。

“ArF浸没式DUV，波长一百九十三纳米。

单次曝光分辨率极限是三十八纳米。

七纳米怎么做？

四重曝光。