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第115章 50周年大阅兵准备（第2页）

团队成员们热烈欢呼。

他们明白，这一胜利不仅意味着一项技术难题的攻克，更是国家科技与国防工业实力的一次集中展现。

鹰击12反舰导弹的列装，必将显著提升海上作战能力。

与此同时，林轩正与徐端颐教授共同推进EUV光刻机的研制工作。

实验室内灯火常明，空气中弥漫着专注与紧张的气息。

林轩站在一台精密的光刻机模型前，手持写满计算公式的报告，看向徐教授：“我认为我们在光源稳定性控制算法上还有优化余地。”

徐端颐教授是光学领域深耕数十年的专家，曾独立主导光刻机研发项目，经验极为丰富。

他微微点头，眼中露出赞许：“林所长的洞察总是很敏锐，具体说说你的想法。”

“目前我们将光源波动率控制在0.1℅以内，但这仍难以满足最高精度芯片的制造要求。”

“我建议引入一套新型自适应反馈控制系统，通过实时监测并动态调整光源输出，理论上可将波动率降至0.01℅。”

林轩想了想说道。

其他人也纷纷围拢过来，脸上写满好奇与期待。

徐教授沉思片刻，缓缓点头：“这是个大胆的设想，但值得尝试。

我们立即组织模拟测试。”

随后的日子，实验室成为他们的主战场。

林轩带领团队成员昼夜不息地优化算法，进行大量模拟实验。

每一次挫折都转化为前进的动力，每一点微小的进展都让团队信心倍增。

“林所长，快看这份数据——新算法在模拟环境中的表现超出预期！

您的思路实在太厉害了！”

一位研究员指着屏幕上的曲线兴奋地汇报。

“很好，这说明我们的方向是正确的。

接下来需要在实体机上进行验证。”

林轩仔细审阅数据，嘴角扬起满意的微笑。

面对操作中涌现的各种问题，林轩总能迅速定位症结，提出创新性的解决方案。

徐端颐教授在一旁观察，心中不禁感叹：林所长在EUV光刻机领域的技术造诣确实令人惊叹，他的创新思维与解决问题的能力堪称国家级人才水准。

终于，在一次关键测试中，经林轩团队改进后的EUV光刻机成功将芯片制造精度提升到全新水平。

实验室内爆发出经久不息的掌声与欢呼，每个人脸上都绽放着成功的喜悦。