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第47章 蒲伟才（第1页）

1月15日，星期六。

合痩市。

乘坐高铁的卫明，来到了这座城市。

为此他特意跟樊姐请了两天假，提前处理了三十多名结石病人，合计腾出了三天时间，就为了解决掉一个问题。

人才！

高端光刻机的研发人才。

而且卫明已经有了明确的招募目标，他认为的最合适最优秀的人才，就在合瘦市这边。

此人名叫蒲伟才。

卫明是在网上查找相关信息的过程中，看到了多条关于此人的新闻。

也注意到此人带领的研发团队，取得的跟光刻机相关的多项研究成果，明白了此人的牛叉之处。

因为这些天卫明也在大力学习一些跟光刻机相关的知识，了解到了euv光刻机的几大核心技术。

一个，组装。

光刻机最重要的技术之一是组装，就是把所有的元件组装起来，然后使分辨率达到最高，同时套刻精度达到最佳。

比如机器内部温度的变化要控制在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器。

一台光刻机中，包含十几个分系统，几万个机械件，数百个的传感器，每一个都要稳定。

二，控制。

光刻机是制造业内对精密性要求最高的产品。

光刻的原理就像在米粒大小的面积上，雕刻纳米级大小的文字，对于误差的要求可想而知。

比如光刻机里有2个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。

两者需始终同步，误差在2纳米以下。

两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。

三，光源。

制造euv需要极高的能量。

euv能被空气吸收，所以光刻环节必须耗电保持真空环境。

更夸张的是，euv还能被透镜吸收，所以只能用十几次面透镜，通过不断反射将光源集中。

每反射1次，euv的能量就会损失3成。

十几次反射后，到达晶圆的光线理论上只剩下2。

从能连赶上看，寒国某半导体企业曾经说过，极紫外光euv的能源转换效率只有002左右。

四、镜头。

光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成，需要高纯度透光以及高抛光。

目前，符合光刻机要求的镜片还无法靠机器制造，先进光刻机镜头全部由手工打磨而成，能够达到这一标准的公司并不多，全世界范围内也就一两家，全部是西方老牌公司。

而这四大类的核心技术中。

卫明了解到这位牛人蒲伟才跟他的技术团队，在短短的十年时间里，一共攻克了两项。

分别是双工台技术与光源技术。

他带领团队研发出的高精密双工台，控制精度也达到了2纳米，跟国外最先进水平，达到了同等先进的程度，抹平了技术差距，可以说是打成了平手。

而在光源技术方面，蒲伟才也是只用了短短几年时间，利用国内在激光技术领域的领先地位，以及材料方面的领先优势，开发出的euv光源系统，最终能源利用率达到了5。