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第769章 还是出事了（第2页）

纪文姝看书，还必须精读，不是那种不求甚解的随便读读，花费的时间就更多。

李云海和纪文姝，又谈到了工作。

纪文姝把科研的进展情况，向李云海作了汇报。

当初李云海提出来，要研制浸润式光刻机。

浸润式光刻机，是指在光刻机投影镜头与半导体硅片之间用一种液体充满，从而获得更好分辨率及增大镜头的数值孔径，进而实现更小暴光尺寸的一种新型光刻技术。

李云海只知道有这么一种技术。

但他只知其然，不知其所以然。

浸润式光刻机技机，具体是怎么样的，他说不出来。

纪文姝道：“李总，我们现在使用的浸入液是环辛烷。

可是我们还存在很多问题没有解决。

对浸入液的充入、镜头的沾污、光刻胶的稳定性和气泡的伤害等关键问题，我们都要一一解决。”

李云海道：“多久能解决这些难题？”

纪文姝道：“我现在不好说，难题太多，我们只能一边研究一边攻克。”

2000年以前，业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，而157nm将成为主流技术。

然而，157nm光刻技术遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。

这是由于绝大多数材料会强烈地吸收157nm的光波，只有CaF2勉强可以使用。

但研磨得到的CaF2镜头缺陷率和像差很难控制，并且价格相当昂贵。

雪上加霜的是，它的使用寿命也极短，频繁更换镜头让芯片制造业无法容忍。

有远见的科学家们，早就看到了未来光刻机的极限。

他们一直在寻求新的突破。

研究浸润式光刻机的，也不仅仅只有四海集团一家公司。

当前的主流研究方向，是基于157nm浸入式光刻。

可是遇到的难题，却让所有人止步不前。

现在，纪文姝也遇到了同样的难题。

其他科研机构，已经放弃了这个课题，转从其他方面着手研究。

但是四海集团并没有放弃。

因为李云海知道，几年以后，浸润式光刻机，肯定会被研究出来。

也就是说，总有一种办法，可以突破现在的瓶颈。

可惜，李云海前世并不是做光刻机的。

他对具体的光刻机技术，只知其一，不知其二。

听纪文姝谈及到具体的科研困难，李云海忽然想到了什么，问道：“现在的研究，是基于157nm波长？对吗？”

纪文姝道：“是的，李总，我们现在要做的，就是突破157nm波长。

可是在157nm波长下，水是不透明的液体，我们很难得到想要的折射率。”

李云海用手指轻轻敲击额头，说道：“不对！