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第589章 摩尔定律和半导体工艺制程（第5页）

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实际上，历史上早期的光刻机技术验证，也曾经用过同步辐射光源去做研究和验证。

肯定是留有余量的。

包括最为接近X光的“极紫外光”

。

最早的光刻机光源是可见的蓝光，波长是450纳米，实现了微米级的工艺。

同时它也可以继续作为科研设备持续运转。

大明现在的情况与另一个世界截然不同。

最起码，在持续四十年的时间内，intel自己显然是留有余量的。

首先intel自己以两年为单位，制定后续的生产和升级计划。

等到官方厂商想要向民间推广的时候，也需要时间和成本让民间厂商和用户接受。

那这个速度就不是半导体产业升级速度的极限。

还有新产业集团统一协调研发和生产节奏，不需要在多方厂商关系协调上浪费时间。

同时要求，它必须是六十四位微处理器，开发代号也因此直接确定为六十四。

不然intel也不会有牙膏厂的绰号。

最后，摩尔既然是供应链周期和行业口号，并且在数十年内都基本保持住了。

也不需要专门喊口号让大家保持同步。

这又反过来让摩尔定律持续不断地延续下去。

同时，对于所有的普通工作者而言，也要另外给更加实在的奖励。

比如说“同步辐射光源”

设施，本身作为一个其他方面的科研设施，其原理使得其能放出各种波长的光。

当民间厂商参与这个产业的时候，整个行业相关的标准和规范都已经确定下来了。

大明的半导体产业构建方式，与历史上的美利坚完全不同。

目前完全没有任何民间厂商直接参与。

但是又不能无限短，最短的X射线会直接穿过物体，导致无法通过透镜和反射来缩放图纸。

这种模式的缺点当然很明显。

以现在大明的资源，对于后世出现过其他方案，也可以让工部有选择尝试。

直到深入5纳米制程范围的时候，193纳米的深紫外光源才彻底走到了尽头。

朱靖垣理所当然的计划，就是把产业的主流产品和行业标准，都培育和规划到相对成熟的状态。

在这样的基础上，朱靖垣对工部、半导体司、工匠们提出了更加具体的研发目标。

在朱靖垣的记忆之中，类似的事情已经重演过很多次了。

但是可以通过曲面透镜投影缩放的方式，照着大模板来生产更小的芯片。

新处理的性能目标是每秒计算次数不低于一千万次。

按照光刻机的逻辑，光源的波长越短，就能够生产出制程越小的芯片。

其次是要在两年内，开发出第一代专用的图像、音频、网络处理芯片，也就是显卡、声卡、网卡。

然后是容量更大，存储密度更到的硬盘，争取将容量提升到十亿字（1G）。

最后是另外成立几个新团队，完成光盘、闪存、数码相机、液晶显示屏相关的技术验证，拿出基本的产品来。